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    怎么看“韬定律” 华为半导体新原则引领未来

    来源:网络   作者:声远热闻

       阅读:417

       发布时间:2026-05-26 02:07:36

       评论:0

    [摘要] 华为发布了半导体“韬(τ)定律”概念。在2026国际电路与系统研讨会上,华为公司董事、半导体业务部总裁何庭波发表了题为《半导体新路径探索与实践》的主旨演讲,正式介绍了这一定律。这是中国在全球半导体领域首次提出指导产业发展的新原则。预计到2031年,基于该定律的高端芯片晶体管密度将达到1.4纳米制程的同等水平。何庭波署名的论文《A Time Scaling Theory for Multi-Laye


    华为发布了半导体“韬(τ)定律”概念。在2026国际电路与系统研讨会上,华为公司董事、半导体业务部总裁何庭波发表了题为《半导体新路径探索与实践》的主旨演讲,正式介绍了这一定律。这是中国在全球半导体领域首次提出指导产业发展的新原则。预计到2031年,基于该定律的高端芯片晶体管密度将达到1.4纳米制程的同等水平。

    何庭波署名的论文《A Time Scaling Theory for Multi-Layer Electronic Systems》已提交至中国科学院科技论文预发布平台,详细介绍了“韬(τ)定律”。该定律是自登纳德缩放定律以来,首个在整个计算栈建立统一优化目标的缩放原理。它不再将晶体管面积作为技术进步的核心衡量指标,而是采用单一特征时间常数τ作为统一优化目标,覆盖从单个开关晶体管到数据中心工作负载、跨越十二个数量级的整个计算体系。

    论文展示了两个量产级别的验证案例:在移动SoC方面,逻辑折叠技术在相同器件节点下实现了晶体管密度55%的提升和41%的能效增益;在AI系统方面,由具备内存语义统一总线架构、近封装Hi-ONE光学I/O以及edge-to-surface 3D折叠技术共同构成的协同设计技术栈,预计到2035年将实现超过100倍的硬件集成度增长。

    未来十年,逻辑折叠技术预计将从局部关键路径折叠演进为全面、多层级的折叠架构,在单个封装内集成三层、四层甚至更多有源层堆叠。这一演进依赖于低温混合键合技术和TSV(硅通孔)落点下移,释放超过30%的高层布线资源。2026-2035年间,晶体管密度预计将提升至接近或超过每平方毫米4亿个晶体管(400 MTr/mm²),显著提升麒麟芯片CPU核心频率,并为迈向4 GHz甚至更高频率铺平道路。

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