还是选择阿斯麦？Terafab可能在明年年中迎来首台EUV光刻设备

马斯克的芯片项目Terafab正在快速建设，以准备早日开始芯片设计与制造。据知情人士透露，该项目可能在明年年中迎来其首台

阿斯麦

EUV光刻设备。

此前，研究机构SemiAnalysis曾预测，Terafab研发工厂的主体结构要到2027年底才能完工，而设备要到当年晚些时候才会开始安装。因此这台传闻中的EUV光刻设备可能将闲置一段时间。

SemiAnalysis预计Terafab建筑将在15个月内竣工，并预测

特斯拉

还需要六个月的时间来安装设备和生产工具。之后，

特斯拉

即可开始加工晶圆，或者更确切地说，是进行芯片生产试验，以便团队为Terafab量产晶圆厂一期工程的完成做好准备。

由于现在获得一台

阿斯麦

Twinscan NXE EUV

光刻机

十分困难，在投入使用前将其存放几个月听起来像是一段代价高昂的闲置期，但这对于Terafab来说，可能不像对于传统芯片制造商那样是一个重大的财务问题。

马斯克曾经暗示，Terafab计划应用一种新的极紫外光生成方法，使用自由

电子

激光器（FEL）代替

阿斯麦

的激光等离子体光源。

激光等离子体光源技术只有约0.1%的输入电能可以转化为极紫外输出，且该工艺会产生碎片和污染物，从而增加维护需求。但与此同时，FEL EUV技术仍处于研发阶段，尚没有成熟的供应商。

Terafab提前购置阿斯麦

光刻机

的消息也意味着，这个项目的第一代产品仍将依赖更为传统的设备。但这也不令人意外，因为Terafab计划采用

英特尔

的14A制造技术。

英特尔

的14A工艺不仅会使用现有的低数值孔径EUV扫描仪，还会使用下一代高数值孔径EUV设备。

而使用非常规且未经充分测试光源的光刻系统，将需要对制造工艺进行重大修改、广泛的设备认证，并且可能需要对光掩模和

光刻胶

进行更改，这将使

英特尔

14A技术的转移变得复杂，并延迟Terafab的量产爬坡。